主要参数：

主腔室真空度： ~1×10-10 Torr
质谱的电离腔真空度： <5 ×10-12 torr
样品温度调节： 100 - 1000 K
样品清洁处理： 离子枪
样品结构表征： 俄歇谱(AES)和低能电子衍射(LEED)
可测量质量数范围： 1- 60 amu
灵敏度： 8-12 mA/Torr
电离源灯丝： 敷钍铱丝(Thoriated Iridium )
电子轰击的电压可调范围： 0.1-100V

功能用途：

本装置用高灵敏的质谱来探测表面光化学反应的产物，通过采用多级超高真空泵技术，使电离探测区域达到极高的真空度( 0.2 x 10-12 Pa)，与同类仪器相比，在探测区域的H2, CH4背底信号降低了约2个量级，其他残余气体背景下降了大约1个量级。因此，进行程序升温脱附和飞行时间谱测量的信噪比得到了极大的提高。另外，这套装置还结合了波长可调谐的飞秒激光光源，能够研究了不同光子能量对光化学反应的影响。